HEMT 제조방법
등록번호 10-1985897조회수 15
- 기술구분
- 국방특허기술
- 기술분야
- 전기/전자
- 상세분야
- 반도체소자 및 시스템
- 등록일
- 2019/05/29
- 발명자
- 김지헌
기술 내용
-민수사업화명 : 고선형/고출력 고전자 이동도 트랜지스터 기술
-개요 : 본 특허는 게이트 전극과 드레인 전극의 거리 조절을 사용한, 다양한 문턱전압을 가지는 HEMT 제조방법에 관한 것이다.
-특징 : 고주파 동작시 3차 고조파(third order harmonic)의 발생을 억제하고, 선형성을 향상시키며 소자의 고주파 출력 성능을 개선시킨 HEMT 제조 방법을 제공한다.
-민수활용분야 : GaN 기반의 전력증폭소자 분야
-출원일 : 2017-12-15
-등록일 : 2019-05-29